MOCVD Epitaxy

有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD, Metal-organic Chemical Vapor Deposition)，是在基板上成長半導體薄膜 (磊晶 Epitaxy) 的先進半導體技術。磊晶的品質決定了光電、電子元件的特性及品質、壽命和可靠度。聯勝光電團隊熟悉 MOCVD 關鍵製程技術，並具備改善機台設備的能力，從源頭改善提升晶體品質，並依此生產出優質的磊晶晶圓，滿足尖端應用市場所需。
聯勝光電的核心團隊擁有超過二十年以上的技術經驗，深諳材料與製程技術的機理，能緊密結合設備、元件設計與製程的特性，達到元件最佳化的要求。無論是磊晶均勻性、晶體缺陷密度 (Crystal Defect Density)、光電轉換效率 (Power Conversion Efficiency)、溫度穩定性 (Temperature Stability) 等指標都將有相當高的表現。